依托绿色催化与高端化工材料研究中心和材料数据库与数字化模拟研究中心，联合中节能万润股份有限公司建设“电子信息新材料联合研发中心”，主要开展相关材料的结构设计与合成、复配技术的研究开发，对OLED显示领域、半导体领域关键材料和产业化示范技术进行攻关。开展新型OLED显示材料的结构设计及工艺开发研究；开展半导体器件制造中清洗、光刻、封装等所需关键材料及光学部件所需关键材料的基础研究及产业化开发。通过持续攻关研究，为信息产业的突破发展奠定技术基础，推进产业升级，突破在材料领域卡脖子的技术问题，为国家高科技产业的持续提升贡献力量。

   具体联合研发内容包括：

 （1）新型OLED显示材料

   随着显示技术的不断向前发展，更高的色彩刺激度、更优的视觉效果成为新型显示，特别是OLED显示进一步的追求目标。当前，构成全彩OLED显示的RGB三原色中，红色和蓝色像素的色纯度已经达到BT2020的色纯度要求，但是受限于所使用的绿色磷光材料的本征光谱，绿色像素的色纯度还不能满足高色域要求。

   开发新型具有高色纯度、高光效率的绿色B-N类发光材料，并基于所开发绿色B-N化合物材料，制备高色纯度绿色发光器件，重点面向产业化需求，研究B-N化合物的合成工艺方法，努力实现低成本合成工艺下，高纯度绿色B-N化合物材料的合成和制备。

 （2）半导体用光刻胶等先进材料

   光刻胶广泛用于半导体、平板显示器、PCB等微电子行业，在生产芯片、内存、硬盘、LED灯、液晶显示器、OLED显示器、PCB电路板等的工序中起关键作用，光刻工序决定着芯片单元结构的线宽（如5nm,7nm芯片）和成本，没有光刻胶这些产业寸步难行，但国内光刻胶产业发展滞后，先进的光刻胶技术被日本、美国等企业所垄断，国内光刻胶主要依赖进口。随着国内晶圆厂和平板显示厂规模与数量日益增大，对上游的关键材料需求激增，而目前中美技术贸易对抗中，芯片行业首当其冲，国内厂商包括华为等致力于关键材料国产化，为光刻胶业务的发展带来难得的机遇。

   光刻胶核心材料是高分子低聚物和光致酸剂、光引发剂，核心技术是高分子聚合以及配方、应用测试。

   将进行光刻胶所用的低聚物、单体、光致酸剂、电子级溶剂以及其他助剂的研究与开发，开发一系列应用在193纳米以及最高端的EUV光刻胶产品。借助I线胶产品MCPR2700的市场推广和生产经验，建立光刻胶的研发和生产体系，培养相关团队，突破国外企业的垄断，实现光刻胶国产化，为国家在半导体技术解决更多卡脖子问题。

   ③先进复合材料

   先进复合材料具有比模量、比强度高，抗疲劳、耐腐蚀，可设计性强等性能特点，已在航空装备中得到广泛应用，成为飞机结构重要的材料之一，其用量成为飞机先进性的重要标志之一。目前，航空先进复合材料的主要基体材料是热固性树脂(如用量较多的环氧树脂基体类，双马来酰亚胺基体类)，热固性树脂具有成型工艺性、耐环境性和尺寸稳定性好等优点，传统的热固性树脂基体韧性较差，并遗传给碳纤维复合材料较低的抗冲击损伤能力。我国在碳纤维复合材料增韧技术方面与美国、日本等发达国家的差距直接影响了我国飞机制造业的水平，目前，美国波音787已经超过一半材料使用先进复合材料，无人机结构件几乎全部使用复合材料，战斗机复合材料使用率也是逐年提高，而我国的飞机材料基本还是以金属材料为主，直接导致了飞机续航能力弱，载弹量偏低等性能的差距。

   将开发一种适用于碳纤维复合材料的可溶性聚酰亚胺，该产品可与环氧树脂/双马来酰亚胺树脂体系互溶，制备预浸料时无需加溶剂，而且固化过程不产生小分子。将打造在温和的工艺条件下，制备质量好的复合材料部件，助力国内飞机领域性能提升。